快科技5月31日消息，在荷兰ASML几乎垄断全球光刻机市场的背景下，日本光刻巨头尼康正准备发起反击。
日本尼康新任总裁兼CEO大村泰弘（Yasuhiro Omura）近日接受《日经亚洲》专访时透露，公司将通过大幅降低ArF（氟化氩）沉浸式光刻机的售价，挑战荷兰ASML在全球光刻设备市场的垄断地位。依托核心零部件自主生产的成本优势，尼康目前正与美国和亚洲多家大型芯片厂商展开洽谈，部分合作已接近签署采购订单阶段。
事实上，ASML目前占据着全球光刻设备市场80%以上的份额，尤其是在极紫外（EUV）光刻机领域拥有绝对垄断权。不过在成熟的深紫外（DUV）市场，情况并非完全一边倒。
即使是最先进的3nm芯片，其大部分制程步骤仍然需要使用ArF光刻机完成。目前ASML的高端ArF设备均价约为8250万美元，这也为尼康通过价格切入市场留下了足够空间。
大村康弘指出，尼康打价格战的核心底气在于大量核心零部件能够自主生产，这让公司在成本控制上拥有天然优势。
据业内估算，尼康的ArF光刻机售价有望比 ASML同类产品低 20%-30%，这对于需要大规模扩产的晶圆厂来说，意味着能节省巨额设备投资。
作为DUV光刻机中的高端品类，ArF光刻机的市场价值远超很多人的认知。其采用193nm波长，分为干式和沉浸式两种，即使在EUV光刻机已经量产多年的今天，全球绝大多数芯片制程步骤仍然依赖ArF设备完成。
即便是最先进的3nm芯片，也有超过70%的光刻工序需要使用ArF沉浸式光刻机，配合多重曝光技术，ArF设备甚至可以量产7nm级别的芯片。
事实上，尼康曾是全球光刻机行业的绝对霸主，巅峰时期英特尔80%的光刻机订单都交给了尼康。不过由于在EUV技术路线上的判断失误，尼康于2008年退出了EUV竞争，市场份额逐渐被ASML蚕食。
但在ArF领域，尼康依然保留了深厚的技术积累，尤其是自研的光学镜头在CD均匀性等关键指标上表现出色，其产品非常适合作为ASML光刻机的补充和备份。
按照计划，尼康将在2028财年推出新一代 ArF沉浸式平台，配备全新的镜头和晶圆台，并且能够与ASML的现有设备兼容。
