SK海力士将重启大连二厂扩建工程:计划生产238层NAND闪存芯片
  • 鹿角
  • 2026年07月10日 16:32
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快科技7月10日消息,据TrendForce,随着全球NAND闪存市场需求回升,主要制造商在经历阶段性停滞后,正陆续恢复扩产步伐。

SK海力士宣布将投资约500亿美元,在韩国新建NAND闪存生产线,同时也在推进其中国工厂的建设进程。

在中国大连,SK海力士计划于2026年下半年正式重启二厂扩建工程,启动生产设备安装,并分阶段推进设施建设,预计持续至2027年上半年。

目前,其合作伙伴已开始将韩国闲置设备转运至大连,海外供应商也陆续收到设备交付的初步采购订单。

此前,受美国出口管制及NAND闪存市场长期低迷影响,SK海力士曾暂缓大连二厂的扩建。按照最新规划,该厂未来将主要生产238层NAND闪存,月产能目标为3万至5万片晶圆。

与此同时,大连一厂也将进行产线切换,通过替换老旧设备,转产192层NAND闪存产品。值得注意的是,尽管SK海力士在韩国本土亦有大手笔投资,但报告指出,大连二厂有望成为其扩产速度最快的NAND生产基地。

除NAND闪存外,SK海力士近期也在扩大在华DRAM产能,正稳步提升无锡工厂的生产规模,以应对多元化存储芯片需求。

SK海力士将重启大连二厂扩建工程:计划生产238层NAND闪存芯片

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