快科技11月3日消息，苹果正在开发用于下一代OLED面板的高迁移率氧化物（HMO）技术，在成膜方式上目前优先考虑溅射工艺，最终量产方案尚未敲定。三星显示与LG显示两家面板厂都在同时推进溅射与原子层沉积（ALD）两条路线。
从技术特性看，ALD在薄膜精度和特性控制上更有优势，但设备和材料成本偏高；溅射则可以直接沿用现有OLED产线设备，成本压力小得多。苹果因此更倾向于先评估溅射方案的可行性。HMO被视为未来MacBook、iMac等高分IT用OLED的候选技术。目前高端OLED普遍采用LTPO，即硅与氧化物半导体混用；如果HMO性能足够高，部分硅工序就可以被氧化物替代，制程随之简化，生产成本也能降下来。
三星显示在开发溅射HMO的同时，也在验证ALD路线，重点是确认苹果要求的电子迁移率和可靠性能否在大尺寸基板上同样成立。据报道，苹果先在其台湾研发设施内评估了相关技术，随后请三星显示确认其能否应用于第8代级别的大面积产线。
LG显示则在第6代中小尺寸OLED产线上开发溅射HMO，ALD研究同步进行。去年该公司用ALD制备的氧化物TFT实现了约40㎠/Vs的电子迁移率，并展示了对应的OLED试制品。但考虑到新增设备投资带来的负担，LG显示同样更看重复用现有溅射设备的方案。
HMO的本质是提升OLED中薄膜晶体管（TFT）的性能，后者负责控制每个像素的开关与亮度。现有氧化物TFT的电子迁移率在10㎠/Vs上下，HMO的目标是做到30至50㎠/Vs。迁移率越高，能供给的电流越大，越有利于实现高分辨率和高刷新率画面。难点在于，器件阶段达标还不够，经过多道制程、经受温度与光照之后，成品面板仍要维持这一特性。
一位业内人士表示，两家公司都在以溅射为优先、同时研究ALD，“ALD的性能优势在研究阶段已经得到验证，但出于成本考虑，看起来还在溅射上做更多试验”。
