台积电将与富士通联手研发28nm制程工艺
  • 张以军
  • 2009年08月28日 17:36
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据报道,继在40nm工艺上进行合作之后,台积电和富士通近日又达成一致,双方将会在28nm工艺的研发上继续合作。

根据双方达成的协议,双方将以台积电先进的技术平台为基础,针对富士通微电子的28纳米逻辑IC产品进行生产,共同开发并强化28纳米高效能工艺。

富士通高级副总裁Haruyoshi Yagi表示:“我们先前与台积电达成的40nm工艺合作进展迅速,目前有好几个产品正在设计当中。通过与台积电的28nm高性能处理技术的合作,我们可以结合双方的竞争优势为消费者创造更大的价值,这同时还会为台积电和富士通专用集成电路、专业标准产品业务带来增长。”

另外,双方已经开始就其它方面的可能性合作进行讨论。

台积电将与富士通联手研发28nm制程工艺

 

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