NV30:.13微米和120M晶体管
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  • 2002年06月09日 12:43
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Digitimes报道:

"Nvidia将在2002年第三季度发布的产品中采用.13微米工艺,Nvidia CEO Huang Jen-hsun在Computex Taipei上说,这样可以领先竞争对手,当然业界对于.13的图形芯片的稳定性和成本上都有一些担心。

但是Huang声称因为Nvidia是业界领袖,所以改变并不是最危险的路线。以前Nvidia的GF3芯片就首先采用了TSMC的.15微米工艺。

针对目前Nvidia已经削减TSMC定单的谣言,Huang说Nvidia在第一季度确实减少了TSMC定单,但是那是因为.15工艺的良率提高。在第二季度,减少定单是因为产品从GF2系列向GF4过渡,这是正常现象。但是,下半年的定单不会减少,Nvidia期待TSMC 2002年定单将超过2001年定单。

Huang还说Nvidia不准备寻找第二个芯片代工厂,在目前保持和TSMC的关系是最重要的。

在今年的Computex上Nvidia并没有宣布其下一代芯片,但是一些主板厂商演示了基于Nvidia Crush 18的主板。Crush 18是第二代nForce芯片组,支持DDR400。"

3DGPU论坛上,一位读者援引Wired杂志报道说,NV30将包括120M晶体管(P4只有40M晶体管:),相比而言,3DLabs P10将包括76M晶体管,而Parhelia-512是80M晶体管,显然,这是.13微米工艺对.15微米工艺的优势所在。而谣传R300将包括107M晶体管,仍然采用.15微米工艺。

也许从某个角度来说,NV30仍将是未来最先进的GPU?

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