10nm工艺节点即将大规模普及，同时这也意味着我们很快进入7nm阶段，不过，7nm的技术挑战已不可同日而语，其中的关键就是EUV（极紫外）光刻机。
其中，荷兰ASML（阿斯麦）在当今高端沉浸式光刻机中占据80%的份额，是绝对的龙头。
昨天晚些时候，阿斯麦也公布了财报数据，Q1净营收为19.4亿欧元，毛利率47.6%，而它们所做的一切，不过是卖出数十台光刻机而已。
其中主要包含三部分，分别是深紫外光（DUV）微影、全方位微影（Holistic Lithography）和极紫外光（EUV）微影，前者用于10nm量产和7nm的研发，迄今累计装机60多台。
而最高端的EUV光刻机，仅仅在Q1晚些时候出货了第一台NXE：3400B，而收到的订单已经累计21台，总价值23亿欧元，单价超1亿欧，媲美一架F35战斗机。
这第一台的客户如无意外应该就是Intel，而后者目前用的最多的还是前一代EUV系统NXE 3350B，即使这样，全球也才部署了6套而已，供不应求。
