中芯国际称7nm EUV光刻机问题已解决技术研发步入正轨-快科技-科技改变生活

中芯国际称7nm EUV光刻机问题已解决技术研发步入正轨

宪瑞
2019年12月09日 18:59
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在半导体工艺进入10nm节点之后，制造越来越困难，其中最复杂的一步——光刻需要用到EUV光刻机了，而后者目前只有荷兰ASML阿斯麦公司才能供应。中芯国际去年也订购了一台EUV光刻机，日前该公司表示与ASML之间已解决光刻机的问题，EUV技术研发步入正轨。

前不久有消息称ASML停止对中芯国际供应EUV光刻机，随后ASML公司表示不是停供，而是延期，主要是在准备该国政府的出口申请文本工作。

中芯国际董事长周子学日前在韩国访问，韩媒报道称周子学表态已经解决了与ASML之间就光刻机供应存在的问题，强调中芯国际在先进工艺上的研发、生产一直处于稳定的轨道上，与客户及设备供应商之间没有任何问题。

ASML公司是EUV光刻机目前唯一的供应商，今年四季度，ASML预计交付8台EUV光刻机，平均每台价格达到了1.2亿欧元，折合人民币9.3亿元，堪称人类最昂贵的设备了。

中芯国际称7nm EUV光刻机问题已解决技术研发步入正轨

#极紫外光刻 #光刻机

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