11月5日，世界光刻机巨头荷兰阿斯麦ASML亮相第三届进博会。作为全球唯一能生产EUV（极紫外光）光刻机的企业，由于ASML目前仍不能向中国出口EUV光刻机，所以此次展示的是其DUV（深紫外光）光刻机。据悉，该产品可生产7nm及以上制程芯片。
ASML此次也带来了其整体光刻解决方案，包括先进控制能力的光刻机台计算光刻和测量通过建模、仿真、分析等技术，让边缘定位精度不断提高。
ASML中国区总裁沈波接受媒体采访时表示，该公司对向中国出口集成电路光刻机持开放态度，对全球客户均一视同仁，在法律法规框架下，都将全力支持。
沈波透露，自30年前进入中国市场以来，ASML已提供了全面的技术和能力来满足中国客户的需求。目前在中国一共为客户提供了700多台装机。在遵守法律法规的同时，ASML全力支持客户和中国集成电路行业的发展。
被问及有没有向中国出口EUV光刻机的打算，他表示，EUV光刻机还在等荷兰政府的出口许可证。ASML必须要在遵守法律法规的前提下进行光刻机出口。“但我们对向中国出口光刻机是保持很开放态度的，我们对全球客户都一视同仁，只要是我们能够提供的技术和设备，我们都会全力支持。”
据了解，目前，市场上光刻机主要分为两种，一种是DUV光源，另外一种是EUV光源。后者相比前者精度更高，但价格也更贵，而且目前全球只有荷兰ASML有能力生产EUV光刻机，而且一年产量还很有限。EUV光刻机售价在1.12亿欧元左右，约合人民币将近10亿。而DUV光刻机价值则是在6亿左右，便宜了40%。
EUV光刻机因为光源是高能紫外线的缘故，一次曝光就可以实现芯片制造，生产效率更高，良品率也远高于DUV光刻机，这为芯片制造商节省了许多的生产成本，也相当于变相提高产能。
相比之下，DUV光刻机生产7nm工艺芯片步骤繁琐，液浸式DUV光刻机需要多次曝光才能达到7nm效果，而每一次曝光都会使产品生产成本大幅提升，良品率也会快速下降。
据悉，ASML目前最先进的EUV（极紫外光）光刻机可生产5nm芯片，iPhone 12所搭载的A14芯片也需要在ASML EUV光刻机支持下生产。
深紫外光（DUV），KrF 准分子激光：248 nm， ArF 准分子激光：193 nm；极紫外光（EUV），10 ~ 15 nm
