有消息称，在新任副董事长蒋尚义的帮助下，中国芯片巨头中芯国际将寻求与荷兰半导体设备公司阿斯麦(ASML)就EUV光刻设备进行谈判。
报道称，中芯国际一直难以从阿斯麦获得EUV光刻设备，尽管阿斯麦在法律上不受某些约束条件的影响，但仍存顾虑。
对于中芯国际引入EUV （极紫外光源）光刻机事情，目前上市不被允许的，而ASML之前已经证实。
ASML CFO Roger Dassen表示，如果广泛的来理解其规章制度对ASML的总体含义(对于特定的中国客户)，则意味着ASML将能够从荷兰向这些中国客户提供DUV光刻系统，且无需出口许可证，但是EUV （极紫外光源）光刻机是没有机会的。
2018年4月，中芯国际向ASML订购了一台 EUV 光刻机，价值1.2亿美元（约合人民币8亿元），预计2019年年初交货。后来此事被报道后，ASML回应称，对包括中国客户在内的全球客户都一视同仁，且向中国出售EUV光刻机并没有违反《瓦森纳协定》。当时，荷兰政府的确向 ASML 发放了出口许可证。
不过，最终这个交易也没有形成，此后，关于 EUV 光刻机向中国出口，ASML 的官方说法一直是：公司仍在等待新许可证申请的批准。
目前的光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV光刻机，分为干分式与液浸式两种。其中，液浸式于ASML手中诞生，其波长虽然有193nm，但等效为134nm，经过多重曝光后，液浸式光刻机也能够达到7nm工艺。但是，每多一次曝光都会使得制造成本大大提升，而且良品率也难以控制。
EUV光刻机采用13.5nm波长的光源，是突破10nm芯片制程节点必不可少的工具。也就是说，就算DUV（深紫外线）光刻机能从尼康、佳能那里找到替代，但如果没有ASML的EUV光刻机，芯片巨头台积电、三星、Intel的5nm产线就无法投产。
