台积电之后 美光也要在日本新建内存晶圆厂:耗资8000亿日元
  • 宪瑞
  • 2021年10月20日 17:13
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日本重振半导体的战略现在又赢得了一个重要支持,继上周台积电宣布在日本新建晶圆代工厂之后,最新消息称美光也计划在日本投资建设新的DRAM内存工厂,投资可达8000亿日元,约合447亿元人民币。

据报道,美光计划在日本广岛市现在设施附近购买土地用于建厂,预计会创造2000-3000个工作岗位,2024年开始运营。

这个项目耗资高达60008000亿日元,因此日本政府会提供一些补贴,但没有具体的数据,目前美光方面还没有确认建厂计划,没有公布细节。

上周的财报会议上,台积电确认了日本建厂的计划,计划建造中的工艺主要是22nm28nm,与美国建厂的5nm先进工艺不同,日本工厂的工艺主要针对特殊领域,预计最重要的客户之一就是索尼,给后者的CIS传感器代工,还有就是日本的汽车电子芯片等等,所以不需要最先进的工艺。

该工厂位置在索尼的传感器工厂附近,计划招聘2000多名员工,2022年开工建设,2024年正式投产。

总计1万亿日元的投资中,日本政府预计会补贴5000亿日元,毕竟这个项目是日本政府极力拉拢的,确保半导体产能已经成为国家战略,不惜成本也要拿下。

台积电之后 美光也要在日本新建内存晶圆厂:耗资8000亿日元

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