当地时间3月8日，荷兰光刻机大厂ASML通过官网发布了《关于额外出口管制的声明》称，荷兰政府于当天发布了有关即将对半导体设备出口进行限制的更多信息。
这些新的出口管制侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积和部分浸没式光刻设备。
ASML强调，荷兰政府新出台的额外的出口管制并不涉及所有浸没式光刻设备，而只涉及所谓的“最先进”设备。
尽管ASML尚未收到有关“最先进”确切定义的任何其他信息，但ASML将其解释为“关键浸没式光刻设备”，定义为TWINSCAN NXT：2000i及之后的浸没式光刻系统。
ASML指出，主要关注成熟节点的客户可以继续使用不太先进的浸没式光刻工具。
ASML预计，新出台的额外的出口管制措施并不会对其此前发布的2023财年的财务展望或去年底投资日上宣布的长期愿景产生重大影响。
荷兰新规影响究竟有多大？
早在今年1月底，就有爆料称，美国已与荷兰和日本达成协议，限制向中国出口一些先进的芯片制造设备。
该协议将把美国 10 月份通过的一些出口管制扩大到这两个盟国的公司，包括 ASML Holding NV、Nikon Corp和 Tokyo Electron Ltd.等。
2月初据报道，美商务部副部长Don Graves于当地时间周二在华盛顿一个活动期间证实，美国已与日本和荷兰达成了对华半导体出口管制协议。
但是日本和荷兰政府之后并未迅速出台具体的细则，也使得外界猜测不断。
此前外界预期，荷兰政府将在限制ASML向中国出口EUV（极紫外光）光刻机的基础上，再度限制部分浸没式光刻机（属于DUV光刻机）的出口，主要是限制先进制程芯片的制造。
所谓浸没式光刻机，属于193nm（光源）光刻机（分为干式和浸没式），可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造，但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。
目前全球仅有ASML和尼康两家公司生产。
由于美国的主要目标是限制中国的先进制程芯片制造能力，因此，业界普遍预期荷兰政府的即将出台的新的限制将会主要针对中高端型号的浸没式光刻机，主要用于成熟制程的浸没式光刻机将不会受到限制。
随着ASML最新声明的公布，也意味着外界的猜测基本正确。
目前ASML在售的浸没式光刻机主要有三大型号：TWINSCAN NXT:2050i、TWINSCAN NXT:2000i 和TWINSCAN NXT:1980Di。
根据ASML的解读，TWINSCAN NXT:2000i及之后的浸没式光刻系统将会受到出口限制。这也意味着，TWINSCAN NXT:1980Di 仍将可以出口。
根据ASML官网的介绍，TWINSCAN NXT:1980Di 的分辨率可以达到≤38nm，每小时可以生产275片晶圆。
据芯智讯了解，NXT:1980Di 虽然分辨率在38nm左右，但是通过多重曝光，依然可以支持到7nm左右。
只不过，这样步骤更为复杂，成本更高，良率可能也会有损失。
据说台积电的第一代7nm工艺也是基于 NXT:1980Di 实现的。
不过，目前NXT:1980Di 更多还是被用于45nm以下成熟制程的生产。资料也显示，2018年，长江存储和华力二期（华虹六厂）订购的NXT:1980Di 成功进厂安装，支持了两家晶圆厂的生产。
ASML于2018年下半年正式出货的更为先进的浸润式光刻机NXT:2000i 通过多重曝光则可以支持到7nm及5nm制程工艺需求。
2018年12月，ASML NXT2000i 首次进入中国，正式搬入SK海力士位于无锡的工厂。
据说更先进的NXT:2050i型光刻机也有进入中国，不过具体哪些厂商有采用并不清楚。
去年ASML就曾表示，除EUV光刻机之外的所有机型都可以向中国正常出货。
总结来说，此次荷兰政府出台的关于ASML部分浸没式光刻机的限制基本符合之前的预期，虽然NXT:2050i和NXT:2000i受限，但是NXT:1980Di 依然是可以出口到中国，目前国内大量采用NXT:1980Di 进行成熟制程制造的晶圆厂将不会受到影响。
此外，如果国内想要继续发展先进制程，也依然是可以通过NXT:1980Di 来进行，只不过成本、良率都要差一些，难有市场竞争力。
