三星电子近日在闪存技术领域再次取得重大突破,研发成功了全球首款64Gb容量的MCL NAND闪存芯片,并开创性地使用了30nm工艺。
单颗芯片达到64Gb后,三星只需16颗这种芯片就可以生产128GB的大容量存储卡。
为了将生产工艺改进到30nm,三星应用了新的“自对准双曝光技术”(SaDPT),融自对准技术和193nm波长光源ArF两次曝光技术于一身。
三星称,这种创新性的芯片要到2009年才会投产。
三星电子近日在闪存技术领域再次取得重大突破,研发成功了全球首款64Gb容量的MCL NAND闪存芯片,并开创性地使用了30nm工艺。
单颗芯片达到64Gb后,三星只需16颗这种芯片就可以生产128GB的大容量存储卡。
为了将生产工艺改进到30nm,三星应用了新的“自对准双曝光技术”(SaDPT),融自对准技术和193nm波长光源ArF两次曝光技术于一身。
三星称,这种创新性的芯片要到2009年才会投产。