财联社11月6日讯（编辑 马兰）日本佳能公司在纳米压印技术上的突破，有望成为芯片光刻机老大荷兰ASML的挑战者，这对小型半导体制造商来说尤其值得期待。
佳能首席执行官Fujio Mitarai最近表示，该公司的纳米压印设备价格将比ASML的光刻机少一位数，但目前还未决定其最终定价。与此同时，佳能机器所需要的功耗仅为光刻机的十分之一。
据此前消息，ASML的新旗舰光刻机价值约4亿美元，近人民币27亿元。其功耗则可能飙升至两百万瓦，比当前光刻机的额定耗电量还要高出一倍。
在拥有全球最多光刻机的台积电，80台功耗一百万瓦的光刻机已让台积电能源消耗占到全台湾地区的12.5%，若其引入更新的下一代光刻机，台积电的耗电量将更加恐怖。
佳能新设备的上市无疑能够打破由少数现金充裕的头部公司垄断芯片制造的局面，小公司或许不再需要通过代工厂商来进行芯片生产，这对促进芯片竞争有着极为关键的作用。
无法取代，另辟战场
88岁的Mitarai指出，纳米压印技术不太可能超越ASML的光刻机，但其将创造新的机会和需求，已经有很多客户提出采购意向。
纳米压印是一种微纳加工技术，它采用传统机械模具微复型原理，能够代替传统且复杂的光学光刻技术。简单而言，像盖章一样造芯片，把栅极长度只有几纳米的电路刻在印章上，再将印章盖在橡皮泥上，得到与印章相反的图案，经过脱模就能够得到一颗芯片，这里的橡皮泥是指纳米压印胶，印章即模板。
近十年来，佳能一直与大日本印刷公司和存储芯片制造商Kioxia Holdings合作开发纳米压印技术。与通过反射光工作的极紫外光刻（EUV）技术不同，纳米压印技术将电路图直接压印到晶圆上，且因其不使用镜头，可以用比现有曝光工艺更低的成本实现精细化生产芯片。
不过，纳米压印虽然仍能衔接最先进的生产工艺要求，但在速度上较光刻机逊色不少。因此，ASML光刻机仍是当今世界最先进的芯片制造机器，也是批量生产快速、节能芯片的首选设备。
佳能机器更像是为小型芯片生产商提供的选择，同时也能让台积电和三星电子等大型代工商更容易生产小批量芯片，从而节约成本。
据悉，佳能正在建设自己的第一家纳米压印设备工厂，预计将在2025年上线。自今年年初以来，佳能股价已经累计上涨了27%，而另一家竞争对手尼康股价也上涨了24%，但该公司的光刻机设备竞争力远不及ASML。
